| Pembentukan oksida silikon (SiO2) pada permukaan silikon disebut oksidasi. Lapisan oksida silikon sangat penting dalam proses semikonduktor karena bersifat isolator sehingga dapat digunakan untuk mencegah hubungan langsung antara silikon dengan udara. Pada oksidasi termal, ketebalan lapisan oksida silikon yang dihasilkan sangat tergantung pada waktu oksidasi dan temperatur yang digunakan. |