Anda belum login :: 27 Nov 2024 00:01 WIB
Detail
BukuTeknologi Proses Difusi dan Implantasi Ion
Bibliografi
Author: Pandjaitan, Lanny W.
Topik: ION; DIFUSI DAN IMPLANTASI ION
Bahasa: (ID )    
Penerbit: Unika Atma Jaya     Tempat Terbit: Jakarta    Tahun Terbit: 1993    
Jenis: Course Material (diktat)
Fulltext:
Ketersediaan
  • Perpustakaan Pusat (Semanggi)
    • Nomor Panggil: RR-276
    • Non-tandon: 1 (dapat dipinjam: 0)
    • Tandon: tidak ada
    Lihat Detail Induk
Abstract
Pembuatan rangkaian terintegrasi memerlukan proses ketidakmurnian untuk dapat menghasilkan bahan semikonduktor tipe-n atau tipe-p. Bahan jenis n atau p dapat diperoleh dengan teknologi dengan teknologi proses difusi dan implantasi ion. Kedua macam teknologi dengan keuntungan dan kerugian masing-masing akan dapat membantu membuat keputusan dalam menentukan teknologi mana yang akan digunakan. Dengan uraian pada tulisan ini akan dapat diperoleh gambaran tentang proses membuat semikonduktor tipe-n dan tipe-p.
Opini AndaKlik untuk menuliskan opini Anda tentang koleksi ini!

Lihat Sejarah Pengadaan  Konversi Metadata   Kembali
design
 
Process time: 0.1875 second(s)