| Salah satu proses dalam industri mikroelektronik adalah plasma cleaning yang digunakan untuk mengikis sisa lapisan film zat kontaminasi yang menempel pada suatu permukaan. Komponen utama dalam proses plasma cleaning adalah pulsed-DC power supply yang harganya relatif tinggi dan kurang terjangkau untuk penelitian skala kecil. Untuk mengatasi hal tersebut dapat dibuat handmade plasma cleaning system dengan power supply sederhana seperti yang sudah di buat di kampus UNIKA Atma Jaya. Namun, karena menggunakan power supply sederhana, plasma yang dihasilkan tidak stabil dan dapat menyebabkan fenomena arcing. Untuk mengatasi masalah tersebut, dibuat sebuah sistem kontrol umpan balik menggunakan mikrokontroler dan sensor cahaya. Sensor cahaya akan membaca intensitas cahaya plasma dan memberikan trigger kepada sistem ICP-assisted RF untuk menciptakan induksi medan magnet agar keadaan plasma tetap stabil dan mencegah terjadinya arcing. Hasil dari uji coba sistem kontrol umpan balik mengindikasikan bahwa jarak sensor dan ICP-assisted RF terhadap chamber sangat mempengaruhi nilai pembacaan intensitas cahaya sehingga diperlukan kalibrasi awal. Trigger input yang digunakan pada sistem ICP-assisted RF adalah 16 V dengan medan magnet sebesar 1,776 × 10-6 T yang menghasilkan intensitas cahaya sebesar 200,154 lux, 20 V dengan medan magnet sebesar 2,220 × 10-6 T yang menghasilkan intensitas cahaya sebesar 236,654 lux dan 24 V dengan medan magnet sebesar 2,664 × 10-6 T yang menghasilkan intensitas cahaya sebesar 250,702 lux dengan jarak 2 cm terhadap sumber cahaya dan jarak sensor 10 cm terhadap sumber cahaya dengan penyimpangan pembacaan pada sensor sekitar 0,12%. |