Pada industri manufaktur, modifikasi kekasaran permukaan dengan menggunakan proses RIE merupakan salah satu strategi yang sering digunakan untuk memodifikasi sifat keterbasahan pada material. DC supply umumnya digunakan untuk memberi daya pada sistem RIE dikarenakan topologinya yang murah dan sederhana. Akan tetapi, pada DC supply, potensi arcing sangat tinggi terjadi ketika arus plasma meningkat. Modifikasi pulsed dengan menggunakan duty cycle merupakan salah satu strategi untuk mengurangi potensi terjadinya arcing. Namun, power supply dengan duty cycle yang dapat diatur memiliki harga yang mahal. Selain permasalahan arcing, ketidakstabilan arus plasma juga menjadi permasalahan pada proses RIE. Penggunaan sistem kontrol pada power supply menjadi salah satu cara untuk mengatasi terjadinya ketidakstabilan arus plasma selama proses RIE berlangsung. Oleh sebab itu, pada Tugas Akhir ini, desain low-cost unipolar Pulsed-DC yang dapat mengurangi potensi terjadinya arcing dan memberikan kestabilan arus plasma diperkenalkan melalui simulasi dengan software Scilab/Xcos yang divalidasi dengan pembuatan prototipe power supply. Berdasarkan hasil simulasi dan pengujian rancangan power supply, penggunaan duty cycle dan sistem kontrol PID dapat mengurangi potensi terjadinya arcing dan memperbaiki ketidakstabilan arus plasma selama proses RIE berlangsung. Selain itu, berdasarkan pengukuran WCA, rancangan power supply dapat memodifikasi sifat hydrophilic pada material kaca menjadi hydrophobic. |