Anda belum login :: 23 Nov 2024 21:08 WIB
Detail
BukuPerancangan dan Permodelan Unipolar Pulsed-DC Power Supply Berbasis Scilab/Xcos Untuk Sistem Plasma Etcher Berbiaya Rendah
Bibliografi
Author: Wenehenubun, Frederikus (Advisor); Januar, Mochamad (Advisor); Mandala, Samuel Husin Surya
Topik: Low-cost Reactive Ion Etcher (RIE); Arcing; DC power supply; Low-cost Pulsed-DC power supply; Wettability
Bahasa: (ID )    
Penerbit: Program Studi Teknik Mesin Fakultas Teknik Unika Atma Jaya     Tempat Terbit: Jakarta    Tahun Terbit: 2019    
Jenis: Theses - Undergraduate Thesis
Fulltext: Samuel Husin Surya Mandala_TA_Perancangan dan Permodelan Unipolar Pulsed-DC Power Supply Berbasis ScilabXcos Untuk Sistem Plasma Etcher Berbiaya Rendah.pdf (2.96MB; 5 download)
Abstract
Pada industri manufaktur, modifikasi kekasaran permukaan dengan menggunakan proses RIE merupakan salah satu strategi yang sering digunakan untuk memodifikasi sifat keterbasahan pada material. DC supply umumnya digunakan untuk memberi daya pada sistem RIE dikarenakan topologinya yang murah dan sederhana. Akan tetapi, pada DC supply, potensi arcing sangat tinggi terjadi ketika arus plasma meningkat. Modifikasi pulsed dengan menggunakan duty cycle merupakan salah satu strategi untuk mengurangi potensi terjadinya arcing. Namun, power supply dengan duty cycle yang dapat diatur memiliki harga yang mahal. Selain permasalahan arcing, ketidakstabilan arus plasma juga menjadi permasalahan pada proses RIE. Penggunaan sistem kontrol pada power supply menjadi salah satu cara untuk mengatasi terjadinya ketidakstabilan arus plasma selama proses RIE berlangsung. Oleh sebab itu, pada Tugas Akhir ini, desain low-cost unipolar Pulsed-DC yang dapat mengurangi potensi terjadinya arcing dan memberikan kestabilan arus plasma diperkenalkan melalui simulasi dengan software Scilab/Xcos yang divalidasi dengan pembuatan prototipe power supply. Berdasarkan hasil simulasi dan pengujian rancangan power supply, penggunaan duty cycle dan sistem kontrol PID dapat mengurangi potensi terjadinya arcing dan memperbaiki ketidakstabilan arus plasma selama proses RIE berlangsung. Selain itu, berdasarkan pengukuran WCA, rancangan power supply dapat memodifikasi sifat hydrophilic pada material kaca menjadi hydrophobic.
Opini AndaKlik untuk menuliskan opini Anda tentang koleksi ini!

Lihat Sejarah Pengadaan  Konversi Metadata   Kembali
design
 
Process time: 0.15625 second(s)