Detail Plasma Development During Picosecond Laser Processing of Electronic Materials   Oleh:  Mao, Samuel S. ; Russo, Richard E. ; Mao, Xianglei ; Greif, Ralph Jenis: Article from Bulletin/Magazine Dalam koleksi: Journal of Heat Transfer vol. 122 no. 3 (Aug. 2000), page 424. Topik: PLASMA CHEMISTRY; plasma development; picosecond laser; electronic materials Ketersediaan Perpustakaan Pusat (Semanggi) Nomor Panggil: JJ90.1 Non-tandon: 1 (dapat dipinjam: 0) Tandon: tidak ada     Lihat Detail Induk Opini Anda Klik untuk menuliskan opini Anda tentang koleksi ini! Kembali

Copyright © 2006, 2007 Unika Atma Jaya, all rights reserved